MAH200 圖形電鍍系列干膜光阻劑是一種高性能、全水溶性的干膜光阻劑，特別適用于外層電鍍的應用。特別針對高可能一次合格率而設計，在蓋孔&蝕刻和酸性電鍍工藝中有出色的性能。
特色及優點
極好的貼合度-高良率
蓋孔能力優異
顯影后邊墻垂直/電鍍后邊墻垂直
顯影泡沫少
高解析度、高附著力
應用于酸性鍍銅和鎳金工藝時無滲鍍現象
化學物質滲漏少
堿性褪膜性能好-膜屑顆粒小
堿性褪膜速度快
項目
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單位
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MAH220
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MAH215
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備注
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厚度
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μm
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50
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38
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感度*1
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mj/cm2
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40
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30
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最短顯影時間
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sec.
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32
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25
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附著力*1*2(L/S=X/250)
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μm
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30
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25
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解析度*1*2（L/S=X/X）
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μm
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30
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25
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蓋孔孔徑
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μm
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7.5
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6.5
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*1:MAH215(SST=7/21):采用Stouffer21格曝光尺，推薦硬化格數的中心值的曝光能量，海圣平行光曝光機制作（UVE-HSP5K-11）
*2:1wt%Na2CO3,30℃，最短顯影時間x2
*3:分辨率、解析度以及顯影后圖像。
